Hello,大家好，我们今天来看看北方华创针对于12寸晶圆的清洗设备有哪些？

SC3080 12英寸单片清洗机

SC3080设备可同时配备多种药液，主要用于12英寸后段和前段清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给模块、电源柜等组成，标配8个腔室2套药液系统，能够进行全自动dry in dry out清洗工艺。

• 设备特点：精密的腔室微环境控制能力，支持多种化学品，高效的化学品回收效率，4 腔或8腔可选，优秀的干燥效果

• 适用工艺：后段Cu/Al 制程刻蚀后、Al Pad、背面清洗、背面刻蚀，后段控挡片回收

• 适用材料：单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜。

• 应用领域：集成电路、先进封装、功率半导体、硅基微显示

Bpure系列立式/卧式管舟清洗机 8/12英寸

Bpure系列全自动槽式清洗机采用模块化设计，广泛应用于集成电路领域、先进封装领域里的清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺。

• 设备特点：全自动清洗，浸泡式清洗与喷淋式清洗工艺可选；一机多用，可兼容石英管/舟/工件清洗；自主研发控制系统，友好的人机交互界面；自动配液系统，换酸便捷；分级安全互锁设置，确保设备安全可靠。

• 适用工艺：石英管/ 舟、石英板、点火炮、基座等零部件浸泡式清洗

• 适用材料：石英、碳化硅

• 应用领域：集成电路、先进封装、科研领域

Pinnacle300 12英寸槽式清洗设备

Pinnacle300平台适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示领域的清洗工艺。该机台主要由传输模块、工艺模块、药液供给系统、电源柜等组成。传输模块将晶圆传送到指定位置，可同时传送50片，工艺模块用于清洗和蚀刻，药液供给模块用于高精度药液配比、加热、供给、浓度监测。

• 设备特点：可配备多药液工艺槽，支持DIO₃等附属功能；软件量身定制，具备快速更新能力；较高的温度控制稳定性；超高的补水精度；精准的蚀刻速率控制；优秀的干燥效果。

• 适用材料：光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物。

• 适用工艺：炉前、刻蚀/抛光后清洗、光阻、金属氧化物、氮化物去除、控挡片回收。

• 应用领域：集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示。

支持国产，我们不遗余力！

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